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  • L2006英國Ossila浸漬提拉鍍膜機
    L2006英國Ossila浸漬提拉鍍膜機

    英國Ossila浸漬提拉鍍膜機性能,內(nèi)置軟件,操作簡單,價格經(jīng)濟,為科研領(lǐng)域工作者提供一款理想的適用于液相鍍膜制備而設(shè)計的精密儀器。目前在化學、材料科學的研究中,被廣泛應(yīng)用于溶膠-凝膠(sol-gel)法薄膜材料制備。如硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金屬等所有固體材料表面薄片材料鍍膜工藝,可以精準控制膜片提出速度,進而控制涂層厚度,保證良好重復性。提供2年的質(zhì)保,為使用者提供更高的保障。

    時間:2024-10-25型號:L2006訪問量:3719
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  • L2005英國Ossila小型狹縫涂布儀
    L2005英國Ossila小型狹縫涂布儀

    英國Ossila小型狹縫涂布儀結(jié)構(gòu)緊湊,價格實惠,使用簡單,準確度高。 對于那些希望在小型實驗室中擴大實驗工藝的用戶來說,它是理想之選。與卷對卷和片對片沉積工藝相兼容,狹縫涂布是用于可擴展沉積薄膜的技術(shù)之一。其廣泛的加工窗口確保穩(wěn)定、無缺陷的沉積,適用于各種粘度的溶液。薄膜均勻度高,準確且可重復,厚度可通過改變流速和基材速度來控制。

    時間:2024-10-25型號:L2005訪問量:5444
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  • L2001勻膠旋涂儀
    L2001勻膠旋涂儀

    英國Ossila公司勻膠旋涂儀,操作簡單,方便實用,旋涂均勻,結(jié)構(gòu)小巧緊湊,為實驗室提供了理想的解決方案,其采用創(chuàng)新設(shè)計的非真空卡盤式旋涂吸盤,無需真空泵或充氮氣,就能達到很好的旋涂效果。勻膠旋涂儀可對大小不同規(guī)格的基材都可進行旋涂,尤其是對超薄樣品,即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄時同樣能達到旋涂效果。不會出現(xiàn)真空吸盤旋涂較薄的基材襯底翹曲現(xiàn)象,影響涂層的均勻性。勻膠旋涂儀廣泛應(yīng)用于微電子、半導體、制版、新能源、生物材料、光學及表面涂覆等工藝。

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  • L2001英國Ossila Spin Processor
    L2001英國Ossila Spin Processor

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  • L20001英國Ossila-Spin Coater
    L20001英國Ossila-Spin Coater

    英國Ossila-Spin Coater操作簡單,方便實用,旋涂均勻,結(jié)構(gòu)小巧緊湊,為實驗室提供了理想的解決方案,其采用創(chuàng)新設(shè)計的非真空卡盤式旋涂吸盤,無需真空泵或充氮氣,就能達到很好的旋涂效果??蓪Υ笮〔煌?guī)格的基材都可進行旋涂,尤其是對超薄樣品,即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄時同樣能達到較好的旋涂效果。不會出現(xiàn)真空吸盤旋涂較薄的基材襯底翹曲現(xiàn)象,影響涂層的均勻性。

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  • L2002Ossila-UV Ozone Cleaner
    L2002Ossila-UV Ozone Cleaner

    UV Ozone Cleaner是一種簡單,經(jīng)濟,快速的材料表面清洗設(shè)備,只需把樣品放置到樣品盤上,關(guān)上艙門,設(shè)置時間,并按運行,就可以了,能快速去除大多數(shù)無機基材(比如石英,硅片,金,鎳,鋁,砷化鎵,氧化鋁等)上的有機污染物。特別是當基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時,紫外清洗非常理想。要獲得超潔凈的表面,只需要在傳統(tǒng)清洗后,再用紫外臭氧清洗幾分鐘就可獲得!

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  • 紫外臭氧清洗機
    紫外臭氧清洗機

    紫外臭氧清洗機具有干洗處理、無需真空處理、無破壞燈特長,紫外線燈和照射裝置的高輸出照射技術(shù),實現(xiàn)了以往用溶劑或超聲波清洗液難以達到的高品質(zhì)、高速處理效果。為客戶能制造出更高品質(zhì)的產(chǎn)品而提供紫外線清洗和紫外線改質(zhì)。

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  • 英國Ossila旋涂機/鍍膜機
    英國Ossila旋涂機/鍍膜機

    英國Ossila旋涂機/鍍膜機,方便實用,結(jié)構(gòu)小巧緊湊,占地空間小,為實驗室提供了理想的解決方案,采用創(chuàng)新設(shè)計的旋涂盤,無需真空泵或充氮氣,就能達到很好的旋涂效果,操作簡單方便,旋涂均勻,可對大小不同規(guī)格的基片進行旋涂。 Ossila旋涂機內(nèi)置調(diào)整水平裝置,Z大限度的保證旋涂均勻。

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