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勻膠旋涂儀有一個或多個滴膠系統(tǒng)，可涂不同品種的光刻膠。滴膠的方式有晶片靜止或旋轉(zhuǎn)滴膠。隨著晶片尺寸的增大，出現(xiàn)了滴膠或膠口移動式滴膠。膠膜厚度一般在500-1000nm，同一晶片和片與片間的誤差小于±5nm。滴膠泵有波紋管式和...

隨著社會的發(fā)展及技術的需要，工業(yè)生產(chǎn)對生產(chǎn)材料的要求也不斷增強，如在微電子封裝工藝中，電子設備的小型化、高精度，對封裝工藝的可靠性提出了相應的要求，高質(zhì)量的封裝技術可以提高電子產(chǎn)品的使用壽命。等離子清洗機是利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法...

等離子體是由被剝奪部分電子后的原子及原子團電離產(chǎn)生的離子化氣體狀物質(zhì)，具有比氣態(tài)、液態(tài)、固態(tài)物質(zhì)都高的能量范圍，被稱為物質(zhì)的第四態(tài)。等離子體是由離子、電子和中性粒子組成的中性集合體，在與材料表面撞擊時會將自己的能量傳遞給材料表面的分子和原子...

石墨消解儀具有消解快速、方便等優(yōu)點，適用于農(nóng)業(yè)、林業(yè)、環(huán)保、化工、食品、醫(yī)藥、生化等行業(yè)以及高等院校、科研部門對土壤、食品飼料、植株、種子、礦石等化學分析之前的樣品消解處理。石墨消解儀的核心部件是一塊預先制作了若干孔位的石墨塊，石墨塊上預制...

高壓消解罐又叫水熱合成反應釜，是化學實驗室常用的小型高壓消解反應器。主要用于快速消解難溶樣品，也可用于少量的合成反應。在密閉環(huán)境中，樣品在強酸強堿和高溫高壓同時作用下達到快速消解之目的。高壓消解罐是利用罐體內(nèi)高溫高壓密封體系(強酸或強堿)的...

勻膠旋涂儀一般包括托盤安裝于腔室內(nèi)部，用于吸附基片；噴嘴，延伸入腔室內(nèi)部，用于將去離子水、有機溶劑或光刻膠噴射到基片上；微波發(fā)生裝置，安裝于腔室側(cè)壁，用于產(chǎn)生微波對基片提供熱量；溫控系統(tǒng)，安裝于腔室上壁，用于控制微波發(fā)生裝置以設定微波加熱的...

勻膠旋涂儀操作簡單，結(jié)構小巧緊湊，占地空間小，為實驗室提供了理想的解決方案?？捎糜趯嶒炇翼椖拷ㄔO.作為用于除半導體外,還有硅片、芯片、基片、導電玻璃及制版等表面涂覆工藝，科研、教學之用。勻膠旋涂儀的使用注意事項：1.使用前主要檢查設備與真空...

紫外臭氧清洗機提供一種簡單，經(jīng)濟,快速獲得超潔凈的表面，去除大多數(shù)無機基材(比如石英,硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁等)上的有機污染物。作用是通過紫外光和臭氧將襯底表面的油脂和有機物氧化祛除，以達到清潔的效果。同時改變了襯底表面的親疏水性...